Nexperia wird zum SiC-MOSFET-Anbieter: Hatte der Hersteller bisher in seinem FET-Portfolio auf Silizium und Galliumnitrid gesetzt, sind dort jetzt auch diskrete 1.200-V-Typen auf Siliziumkarbid-Basis verfügbar.
Bei den neu vorgestellten ersten Siliziumkarbid-MOSFETs (SiC) von Nexperia handelt es sich um zwei diskrete 1.200-V-Bauelemente im 3-Pin-TO-247-Gehäuse mit RDS(on)-Werten von 40 mΩ und 80 mΩ. Diese bereits voll qualifizierten und freigegebenen SiC-MOSFETs sind das erste Ergebnis einer kürzlich geschlossenen Partnerschaft des Unternehmens mit Mitsubishi Electric, in deren Rahmen Mitsubishi Electric SiC-Chips produziert und an Nexperia liefert.
Vor vier Jahren ist Nexperia mit GaN-FETs in Kaskodenkonfiguration in das Geschäft mit Wide-Bandgap-Leistungshalbleitern eingestiegen und hat das GaN-FET-Angebot seitdem kontinuierlich erweitert sowie um Enhancement-Mode-GaN-FETs ergänzt. Anfang des Jahres brachte das Unternehmen dann Schottky-Dioden auf Basis eines Inhouse-SiC-Prozesses auf den Markt. „Unsere beiden ersten SiC-MOSFETs sind ein weiterer, wesentlicher Schritt auf dem Weg zu unserem Ziel, ein echtes Powerhouse zu werden“, kommentiert Katrin Feurle, Leiterin der Siliziumkarbid-Produktgruppe bei Nexperia.
Dabei sehe man die jetzt neu vorgestellten SiC-MOSFETs nicht etwa als hauseigene Konkurrenz zum bestehenden GaN-Angebot, sondern als ideale Ergänzung. Laut Sebastian Fahlbusch, Leiter des Power Product Application Competence Center in Hamburg, entspricht die allgemeine Annahme, GaN und SiC stünden zu 100 Prozent in direkter Konkurrenz zueinander, gar nicht der Wahrheit: „Aufgrund der aktuell etablierten Prozesstechnologien haben die Technologien ihren jeweiligen Sweetspot an unterschiedlichen Stellen. Als laterale HEMT-Technologie hat GaN seine Stärken bereits im Low-Voltage-Bereich und seinen Sweetspot heute bei etwa 650 V. Aufgrund seiner vertikalen Struktur kann SiC im Vergleich dazu seine Stärken eigentlich erst ab 650 V überhaupt ausspielen und hat seinen Sweetspot bei 1.200 V oder auch noch darüber.“ Bild 1 veranschaulicht Fahlbuschs Sicht auf die sich unterscheidenden Anwendungsbereiche der beiden Wide-Bandgap-Technologien.
Laut Feurle habe man in der Rekordzeit von unter einem Jahr die beiden ersten SiC-MOSFET-Typen entwickelt, qualifiziert, in die Fertigung und auf den Markt gebracht – dies sei nur durch die gemeinsame Entwicklung zusammen mit Mitsubishi Electric möglich gewesen: „Wer so schnell sein will, muss auf Partnerschaften setzen“. Zugleich betont Feurle, dass die neuen SiC-MOSFETs Nexperia-Produkte sind, mit ausschließlichem Vertrieb und auch mit alleiniger Haftung durch Nexperia. Laut Feurle produziert Nexperia bereits seit einigen Monaten, die Fab sei voll und man könne ab sofort in hohen Stückzahlen liefern.
„Mit diesen ersten Produkten bringen Nexperia und Mitsubishi Electric echte Innovation in einen Markt, der nach mehr Wide-Bandgap-Anbietern verlangt“, so Feurle. „Nexperia kann nun SiC-MOSFET-Bauelemente anbieten, die in Bezug auf mehrere Parameter die beste Leistung ihrer Klasse bieten, darunter eine hohe RDS(on)-Temperaturstabilität, ein niedriger Body-Dioden-Spannungsabfall, eine überragend gering spezifizierte Schwellenspannung, sowie ein sehr ausgewogenes Gate-Charge-Verhältnis. Diese qualitativ hochwertigen MOSFETs sind das erste Kapitel im Rahmen unserer Partnerschaft mit Mitsubishi Electric. Gemeinsam werden wir in den kommenden Jahren die Grenzen der Leistungsfähigkeit von SiC-Bauelementen neu definieren“. Das SiC-MOSFET-Portfolio von Nexperia werde kontinuierlich um Bauelemente mit einer Vielzahl von RDS(on)-Werten in einer Auswahl von Durchsteck- und Oberflächenmontage-Gehäusen erweitert.
Der Einschaltwiderstand RDS(on) gilt generell als kritisches Leistungsmerkmal für MOSFETs in Bezug auf die Durchlassverluste, doch die (auch bei Nexperia) übliche Angabe dieses Werts bei +25 °C sei allein nicht aussagekräftig genug, meint Fahlbusch: „Unter üblichen Betriebsbedingungen erwärmt sich jeder Leistungshalbleiter, und mit der Temperatur steigt prinzipbedingt immer auch der RDS(on) an. Doch die einzelnen auf dem Markt verfügbaren MOSFETs verhalten sich hier sehr verschieden“.
So steige bei Bausteinen anderer Hersteller der Einschaltwiderstand bereits mit nur gering zunehmender Temperatur deutlich an und erreiche bei +175 °C Sperrschichttemperatur teilweise den zweifachen Wert. Im Vergleich dazu bleibe der RDS(on) bei den eigenen SiC-Halbleitern lange Zeit sehr stabil, nehme erst zum Ende der Temperaturskala tatsächlich zu und erreiche bei +175 °C lediglich einen Zuwachs um 38 Prozent, also in etwa den 1,4-fachen Wert.
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